国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

　　每经记者 朱成祥 每经编辑 梁枭

　　近期，工信微报微信公众号发文披露(lù)《首台（套）重大技术装备推(tuī)广(guǎng)应用指导(dǎo)目(mù)录（2024年版）》。其中，在电(diàn)子专用(yòng)设备一栏，氟化氪光刻机、氟(fú)化氩光刻机位列其中。该资(zī)料(liào)显(xiǎn)示，氟化氩(yà)光刻机具有65纳米(mǐ)以下的分(fēn)辨率和8纳米以下的套刻精度。

　　据东(dōng)兴证券研报，光刻机可分(fēn)为直写光刻(kè)机与(yǔ)掩膜(mó)光刻机，市场主流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外）五大类。

　　此次入选推广目录的氟化氩光(guāng)刻机，应(yīng)属于干式(shì)ArF光(guāng)刻机。在具体指标上(shàng)，与ASML旗(qí)下TWINSCAN NXT：1470 以(yǐ)及TWINSCAN XT：1460K类似。

　　国产光刻机实(shí)力几何？

　　据工信微报发文，此次指导(dǎo)目录是为促进首(shǒu)台（套(tào)）重大技术装(zhuāng)备创新(xīn)发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策(cè)的协同。

　　具体来看，氟化氪(kè)光刻机晶圆直径为(wèi)300mm（12英寸），照明波(bō)长为248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比(bǐ)之(zhī)下(xià)，阿斯(sī)麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。这三个型号，波长均(jūn)为248mm，分辨率≤110nm。

　　而指导目录中 更为先进(jìn)的氟化氩光刻(kè)机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。这一(yī)数(shù)据与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K 最为接近。该 型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以
在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

　　相比之下，ASML浸润式(shì)光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率(lǜ)≤38nm。据民生(shēng)证(zhèng)券研报，该(gāi)型号可(kě)实现2.5nm的套刻精度（MMO）。

　　据东海证(zhèng)券援(yuán)引ASML官网数据，2023年各类光刻机均价为：EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元(yuán)）、ArFdry（2742万欧(ōu)元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万(wàn)欧元）。

　　东海证(zhèng)券认为，目前(qián)光刻机国(guó)产(chǎn)化率仅为(wèi)2.5%，整机(jī)技术与(yǔ)海外 差距较大，5~10 年内90nm、28nm光刻机的研发量产较(jiào)为关键。

　　光刻机产业链亟须发展(zhǎn)

　　东(dōng)海证券称，根据中国国际招标网信息，半导体设备招标中，刻蚀、沉积等核心设备的国产化(huà)率获得了较大的提(tí)升，核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海(hǎi)外企业(yè)；但光刻机作为核心设备，国产化率不(bù)足3%，核心原(yuán)因在于零组件供应与整机技术与海外(wài)差距较大(dà)。

　　9月18日，东方财富概念板块中，光刻机（胶）板块排名靠前，板块整(zhěn国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”g)体(tǐ)涨(zhǎng)幅达2.47%。其中，同飞(fēi)股份、波长光电均收(shōu)获20%涨停；新(xīn)莱应材（维权）上涨12.40%。此外，张江高科、海立股份、国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”凯美特气(qì)等也涨停。

　　张江高科受关(guān)注，主要因为(wèi)其曾投资上(shàng)海微电子。张江(jiāng)高(gāo)科于9月10日(rì)在投资者交流平台表示，公司通过子(zi)公(gōng)司上(shàng)海张江浩成创业投资有限(xiàn)公(gōng)司投资了上海微电子2.23亿元，持有上海微电子10.779%的股(gǔ)权，后续未(wèi)增持或减持。

　　东兴证券称，上(shàng)海微电子是我国第一家也(yě)是目前唯一的光刻机巨头，出(chū)货量占(zhàn)国内(nèi)市场(chǎng)份(fèn)额超过80%，产品(pǐn)主要涉及ArF、KrF和
i-line领域，其已具(jù)备90nm及(jí)以下
的芯片制造能力。

　　光(guāng)刻机零部件方面，同飞股份曾在2023年(nián)中报表示，其液体恒温设备(bèi)在半导体制造设备领域，主要应用于光刻机、刻蚀机、研(yán)磨抛光机等关键(jiàn)设备的温度控制。

　　不过(guò)，根(gēn)据(jù)东兴证(zhèng)券研报，光刻机核心组件包括光源系(xì)统、双工作台 、物镜系统 、对准系统(tǒng)、曝光系统、浸(jìn)没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂(tú)胶显(xiǎn)影等。

　　光源系统方面，据华金证券，针对准激光光(guāng)源，科 益虹源主要研发248nm准(zhǔn)分子激光器、干(gàn)式193nm准分子激光器等；福晶科技国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”span>研发KBBF晶体。

　　另据东兴证券，波长光电为国内激光光(guāng)学(xué)元件的主要供(gōng)应商，目前，公司 已具备提供光刻机配套的大孔径(jìng)光
学(xué)镜头的能力(lì)，公司成功开(kāi)发的光刻机平(píng)行光源系统可用(yòng)于国产光刻机领域配套(tào)。

　　波长光电曾于(yú)2023年9月15日披露(lù)投资者活(huó)动记录表称，公司在半导体(tǐ)领(lǐng)域主要涉及两个领域：一个是生产领域，即曝光(guāng)机(jī)、光刻，公司可提供大口径光学镜(jìng)头用于检测，做折反、投射，还可以提供平行光源系统；另(lìng)一个是检测(cè)领域，公司可(kě)提供检测(cè)设备(bèi)上的光学(xué)元件、组(zǔ)件，也可为客户(hù)定制(zhì)开发、装调子系统。

　　物镜系统方面，东兴证券(quàn)称，茂(mào)莱光学光刻(kè)机曝光物镜(jìng)超(chāo)精密光学元件加工技术已实现产业(yè)化。

　　东海证(zhèng)券研报显(xiǎn)示，中国2023年进口光刻机数量高(gāo)达225台，进口金额高达87.54亿美元，进口金额创下历史新高，预计3~5年内我国(guó)光刻机仍主要依(yī)赖进口。一台先进(jìn)的(de)光刻(kè)机有多(duō)达10万个零部件，整体
来看(kàn)我国半导体零组件的国产化率非常低，尽管(guǎn)在各个(gè)赛道(dào)均有相关的国有企业在不断发(fā)展，但距离海外企业依然有较大(dà)的差距，同(tóng)时也预示着国(guó)内(nèi)零组件企业公司有较大的发展机遇。

责任编辑：公司观察

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